作為同樣是有除臭功能的設(shè)備，真空等離子清洗設(shè)備和UV光解設(shè)備有何不同呢？其實就算是作用一樣的設(shè)備，都會有很多地方不是不一樣的，今天就來講解一下這兩者的不同處。

第一點是工作原理的不同：

UV光解設(shè)備是將電能轉(zhuǎn)換為光能，通過使用不同波長和能量的紫外線光進行定向照射。

等離子清洗設(shè)備是通過對氣體施加足夠的能量使之離化成為等離子體。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團等。等離子處理就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、刻蝕等目的。等離子與材料表面可產(chǎn)生的反應(yīng)主要有兩種，一種是靠自由基來做化學(xué)反應(yīng)，另一種則是靠等離子作物理反應(yīng)。

第二點是設(shè)備結(jié)構(gòu)不同：

UV光解設(shè)備通常是由UV固化機、通風(fēng)系統(tǒng)、光源系統(tǒng)、傳達系統(tǒng)和箱體五個部門組成。

等離子清洗設(shè)備是根據(jù)環(huán)境不同、處理材料的不同會有不同的類型和機體，以真空清洗設(shè)備為例，一般其設(shè)備結(jié)構(gòu)由等離子發(fā)生系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、真空發(fā)生系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)、氣路控制等等部分組成。

第三點就是應(yīng)用領(lǐng)域的不同：

UV光解設(shè)備目前在醫(yī)用殺菌、微電子光固化、油墨印刷等工業(yè)領(lǐng)域得要應(yīng)用。

等離子清洗設(shè)備應(yīng)用范圍廣泛，包括航天、醫(yī)用生物、汽車船舶、玻璃、金屬、塑膠、精密電子、印刷包裝等等行業(yè)都可應(yīng)用，并且對于各種形狀、各種材料類型的產(chǎn)品都能夠高效處理。

第四點就是特點的不同：

UV光解設(shè)備特點是：設(shè)備占地面積小、適應(yīng)性強、無須添加其他材質(zhì)等等特點

 真空等離子清洗設(shè)備的特點分別有：

（1）運行成本低、全自動操作，安全可靠

（2）組合性強。可搭配流水線使用

（3）應(yīng)用范圍廣泛，涉及領(lǐng)域多

（4）環(huán)保可持續(xù)發(fā)展

（5）操作簡單，可24小時自動運轉(zhuǎn)，無需人員看管

（6）由不銹鋼組成，更加的牢固、耐用

（7）效率高、處理均勻性

  以上就是真空等離子清洗設(shè)備和UV光解設(shè)備的區(qū)別了，大家可以看到即便是差不多的設(shè)備，但是有很多的不同之處，其實像產(chǎn)品想要用UV油墨粘合力，很多時候也是需要用到等離子清洗設(shè)備來進行前處理以達到對產(chǎn)品表面附著力的提高。

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